[发明专利]一种微蚀刻液有效
| 申请号： | 200910242433.7 | 申请日： | 2009-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN102094200A | 公开（公告）日： | 2011-06-15 |
| 发明（设计）人： | 徐朝晖 | 申请（专利权）人： | 北大方正集团有限公司;珠海方正科技多层电路板有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/16 | 分类号： | C23F1/16 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100871 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微蚀刻液，属于蚀刻领域，为解决现有技术中用于印制电路板金相切片微蚀刻时所用的微蚀刻液具有挥发性、刺激性气味，从而导致不便于操作的问题发生。所述微蚀刻液包括：重铬酸钾10～15、浓硫酸9～18、水85～120；其中，所述各组分的配比为重量分数比。本发明微蚀刻液可用于印制电路板金相切片的微蚀刻。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蚀刻 | ||
【主权项】：
一种微蚀刻液，其特征在于：包括：重铬酸钾10～15、浓硫酸9～18、水85～120；其中，所述各组分的配比为重量分数比。
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