[发明专利]一种前景目标检测方法和装置有效
| 申请号： | 200910243338.9 | 申请日： | 2009-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN101751670A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 谌安军 | 申请（专利权）人： | 北京中星微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 谢安昆;宋志强 |
| 地址： | 100083 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种前景目标检测方法和装置，预先建立背景模型，当需要进行前景目标检测时，针对采集到的原始图像中的每一个像素点X1以及背景模型中与像素点X1处于同一位置的像素点X2，分别进行以下处理：按预定方式，为像素点X1选定邻域A1，为像素点X2选定邻域A2，邻域A1和邻域A2的大小相同；分别计算邻域A1的交互方差和邻域方差，以及邻域A2的交互方差和邻域方差，并利用每个邻域的邻域方差对交互方差进行归一化；将两个归一化结果进行求和，并将得到的和与预先设定的阈值进行比较，如果小于阈值，则确定像素点X1为背景点，否则，为前景点。应用本发明所述方案，能够提高前景目标检测的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 前景 目标 检测 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种前景目标检测方法，其特征在于，预先建立背景模型，当需要进行前景目标检测时，该方法包括：针对采集到的原始图像中的每一个像素点X1以及所述背景模型中与所述像素点X1处于同一位置的像素点X2，分别进行以下处理：按预定方式，为所述像素点X1选定邻域A1，为所述像素点X2选定邻域A2，所述邻域A1和邻域A2的大小相同；分别计算所述邻域A1的交互方差和邻域方差，以及所述邻域A2的交互方差和邻域方差，并利用每个邻域的邻域方差对交互方差进行归一化；将两个归一化结果进行求和，并将得到的和与预先设定的阈值进行比较，如果小于阈值，则确定所述像素点X1为背景点，否则，为前景点。
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