[发明专利]一种用于缩小投影超分辨成像器件和光刻方法

摘要

一种用于缩小投影超分辨成像的器件和光刻方法。器件主要结构特征为多层交替叠加的金属和介质薄膜，薄膜界面为特殊设计的曲面。在薄膜结构最外层掩模物信息以一定缩小倍率成像传递到另外一侧最外层表面，该表面外为光刻胶，实现缩小投影超分辨成像光刻。或者通过投影光学系统将掩模图形投影成像到超分辨成像器件的物平面上，再以一定缩小倍率成像传递到器件另外一侧最外层表面，该表面外为光刻胶，实现缩小投影超分辨成像光刻。

主权项

一种用于缩小成像光刻的超分辨成像器件，其特征在于：所述成像器件的物平面和像平面为相互平行的两平面，物平面和像平面有效范围为半径分别为R和r的圆，R＞r，二个圆心的连线与两平面垂直，且为成像器件的中心旋转对称轴；所述物平面和像平面之间为交替叠加在一起、具有特殊曲面形状、中心旋转轴对称的多层金属薄膜和介质薄膜；该交替薄膜结构的两侧最外层薄膜表面是成像器件的物平面和像平面。