[发明专利]基于光核反应检测材料缺陷的方法及系统无效
| 申请号： | 200910244359.2 | 申请日： | 2009-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN102109476A | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | 李元景;康克军;杨祎罡;李铁柱;张勤俭;杨鹏 | 申请（专利权）人： | 同方威视技术股份有限公司;清华大学 |
| 主分类号： | G01N23/22 | 分类号： | G01N23/22 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 范晓斌;杨松龄 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了基于光核反应检测材料缺陷的方法及系统。该方法包括步骤：用高能X射线扫描被检测材料，高能X射线能与被检测材料中的目标核素发生光核反应以在该被检测材料内部产生正电子；使用探测器测量由于所述正电子发生湮没而产生的γ光子能量以获得γ光子能谱展宽；以及分析所述γ光子能谱展宽以判断被检测材料的缺陷情况。该方法利用高能X射线与被检测材料内部的核素发生光核反应，在被检测材料的内部产生正电子源，从而解决了外部正电子源无法对材料内部进行检测的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 核反应 检测 材料 缺陷 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种基于光核反应检测材料缺陷的方法，包括步骤：用高能X射线扫描被检测材料，高能X射线能与被检测材料中的目标核素发生光核反应以在该被检测材料内部产生正电子；使用探测器测量由于所述正电子发生湮没而产生的γ光子能量以获得γ光子能谱展宽；以及分析所述γ光子能谱展宽以判断被检测材料的缺陷情况。
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