[发明专利]半导体器件用金铍合金材料及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 200910244557.9 申请日: 2009-12-30
公开(公告)号: CN102115833A 公开(公告)日: 2011-07-06
发明(设计)人: 陈怡兰;史秀梅 申请(专利权)人: 北京有色金属与稀土应用研究所
主分类号: C22C5/02 分类号: C22C5/02;C22C1/03;B22D11/16;H01L23/49;H01L21/60
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 朱丽华
地址: 100012*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种半导体器件用金铍材料及其制备方法和应用,金铍合金成分组成及质量百分比:Be:1-5%,Au:余量。制备方法如下:按组分及质量百分比配比计算、称重备原材料;按金、铍半导体器件用顺序先后放入氧化铝坩埚中,再将坩埚放入半圆形的可密封石英玻璃罩内,并抽真空;使用电阻炉加热,升温使金、铍熔化,精练后停止加热;冷却至50℃以下,得到金铍中间合金;将得到的金铍中间合金再用相同的方法与金一起熔化、精练,得到含铍量较低的金铍合金;用该合金再与金经过熔炼、连铸、拉拔工序,得到键合金丝。其是制备优质隧道二极管的基础合金材料,应用于制备二元化合物半导体薄膜电路上的线路与电极;还可制备键合金丝,利于实现金与半导体间的欧姆接触。
搜索关键词: 半导体器件 用金铍 合金材料 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种半导体器件用金铍合金,其特征在于其成分组成及质量百分比:Be:1‑5%,Au:余量。
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