[发明专利]发光装置有效
| 申请号： | 200910246771.8 | 申请日： | 2009-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN101701693A | 公开（公告）日： | 2010-05-05 |
| 发明（设计）人： | 林苏逸;林信吾;郗任远;林淑铃;赖政全 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | F21S8/00 | 分类号： | F21S8/00;F21V13/00;F21V5/00;F21V7/04;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 郑特强;黄艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种发光装置，包括多个光源、一光学板、多个凹陷结构以及至少一出光结构，其中光学板设置于光源的上方，该光学板具有一上表面以及一下表面。凹陷结构由光学板的上表面向光学板的内部延伸，每一凹陷结构对应地设置于一个光源的上方，其中每一凹陷结构的侧表面具有至少两个倾斜角度。出光结构设置于光学板的上表面与下表面的至少其中之一，其中，位于每一凹陷结构下方的光源所产生的光线在凹陷结构的侧表面产生全反射并持续地在光学板内进行至少一次全反射，直到遇到出光结构才射出光学板。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 | ||
【主权项】：
一种发光装置，包括：多个光源；一光学板，设置于所述多个光源的上方，其中该光学板具有一上表面以及一下表面；多个凹陷结构，由该光学板的上表面向该光学板的内部延伸，每一所述凹陷结构对应地设置于一个所述光源的上方，其中每一所述凹陷结构的侧表面具有至少两个倾斜角度；以及至少一个出光结构，设置于该光学板的上表面与下表面的至少其中之一上，其中，位于每一所述凹陷结构下方的光源所产生的光线在该凹陷结构的侧表面产生全反射并持续地在该光学板内进行至少一次全反射，直到遇到所述出光结构才射出该光学板。
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