[发明专利]一种源极为肖特基结的隧穿晶体管结构及其制造方法无效
申请号: | 200910247546.6 | 申请日: | 2009-12-30 |
公开(公告)号: | CN101771079A | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
发明(设计)人: | 王鹏飞;吴东平;张卫 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/47;H01L21/336;H01L21/28;H01L27/092;H01L27/088 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陆飞;盛志范 |
地址: | 20043*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于半导体器件技术领域,具体公开了一种源极为肖特基结的隧穿晶体管(TFET)结构及其制备方法,该隧穿晶体管采用源极为肖特基结的U形沟道结构,其驱动电流得到提高的同时漏电流也得到了减小;同时,该隧穿晶体管利用自对准金属硅化物工艺形成晶体管的栅极、源极和漏极,工艺过程简单,成本低廉,器件的性能得到了很大提升;而且,使用不同的肖特基结做为U形沟道的N型隧穿晶体管(NTFET)和P型隧穿晶体管(PTFET)的源极,可以制成类似CMOS结构的互补隧穿晶体管(CTFET)。 | ||
搜索关键词: | 一种 极为 肖特基结 晶体管 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种隧穿晶体管结构,其特征在于,该隧穿晶体管包括至少一个半导体衬底、一个源极、一个漏极和一个栅极;并采用U形沟道结构;其中,所述的源极采用肖特基结。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复旦大学,未经复旦大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910247546.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类