[发明专利]一种光阻清洗液的制备工艺无效
| 申请号： | 200910247658.1 | 申请日： | 2009-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN102117021A | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | 朱杰;胡建华 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光阻清洗液的制备工艺，其特征在于包括如下步骤：将光阻清洗液的各成分按其工作机理、功能、理化性质或共存稳定性分组，平行地将每组的成分分别进行混合，得到各中间预混物，对中间预混物进行质量控制检测，全部中间预混物检测合格后，进行混合，制得光阻清洗液。本发明的制备工艺缩短了大规模生产的工艺流程时间，极大地提高了产能，降低了生产成本，并且增加了工艺流程质量控制点，提高了质量控制水平，使产品质量保障得到极大提升，降低了生产质量事故风险，因而具有明显的经济价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 制备 工艺 | ||
【主权项】：
一种光阻清洗液的制备工艺，其特征在于包括如下步骤：将光阻清洗液的各成分按其工作机理、功能、理化性质或共存稳定性分组，平行地将每组的成分分别进行混合，得到各中间预混物，对中间预混物进行质量控制检测，全部中间预混物检测合格后，进行混合，制得光阻清洗液。
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