[发明专利]用于光刻的包含嵌段共聚物的组合物和方法有效
| 申请号： | 200910249083.7 | 申请日： | 2009-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN101900953A | 公开（公告）日： | 2010-12-01 |
| 发明（设计）人： | D·王;C·R·斯兹曼达;G·G·巴克雷;C·-B·徐 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供用于浸没式光刻方法的新的光刻胶组合物。本发明优选的光刻胶组合物包含一种或多种嵌段共聚物。在浸没式光刻过程中使用本发明特别优选的光刻胶，表现出减少光刻胶材料向与光刻胶层接触的浸没液中的浸出。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 包含 共聚物 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种处理光刻胶组合物的方法，包括：(a)在基材上施涂光刻胶组合物，该组合物包括：(i)一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)与一种或多种树脂不同的一种或多种嵌段共聚物；以及(b)使光刻胶层浸没式曝光于活化该光刻胶组合物的辐射中。
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