[发明专利]抗静电处理剂,使用该处理剂的抗静电膜、涂布件和图案形成方法无效
| 申请号： | 200910253990.9 | 申请日： | 2005-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN101870860A | 公开（公告）日： | 2010-10-27 |
| 发明（设计）人： | 大久保隆;齐田义弘 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/16 | 分类号： | C09K3/16 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种能够防止化学增强抗蚀层中抗蚀膜变薄现象的抗静电处理剂、使用该抗静电处理剂的抗静电膜、涂布件和图案形成方法；特别地，本发明提供了一种包含可溶于水性溶剂的导电性聚合物、二胺(二价)或多胺(多价)脂族碱性化合物和阴离子表面活性剂的抗静电处理剂，使用该抗静电处理剂的抗静电膜、涂布件和图案形成方法。作为可溶于水性溶剂的导电性聚合物，优选n-共轭导电性聚合物，具有布朗斯特德酸基为硫酸基的π-共轭导电性聚合物，并且优选地，该二胺(二价)或多胺(多价)脂族碱性化合物基于所有碱性化合物摩尔数的量为0.1-75mol％。 | ||
| 搜索关键词： | 抗静电 处理 使用 涂布件 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种用于抗静电处理剂的水溶液，包含二胺或多胺脂族碱性化合物和阴离子表面活性剂。
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