[发明专利]用于单向离合器的粉末金属座圈及其制造方法有效
申请号: | 200910258679.3 | 申请日: | 2003-06-30 |
公开(公告)号: | CN101846145A | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | J·R·L·特拉索拉斯;S·尼加路拉 | 申请(专利权)人: | PMG印第安那公司 |
主分类号: | F16D41/066 | 分类号: | F16D41/066 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 茅翊忞 |
地址: | 美国印*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开了一种制造单向离合器机构中离合器座圈的方法,其包括步骤:对一种铁基粉末金属执行压实和烧结,将其制为近乎成型的形状,由此获得了密度约在6.8g/cc到7.6g/cc之间的心部和一形状近乎成型的座圈表面。按照一定方式对凸轮表面执行冷作加工,以便于增大表面处的局部密度,从而形成一基本上被完全致密的高致密层,且最终的表面光洁度在经过热处理之后就能直接适用于单向离合器的工作条件,而无需进行其它加工。单向离合器机构的内外离合器座圈都可按照这种方式制出,此工艺制出的座圈具有优异的强度、韧性、疲劳强度以及耐磨性。 | ||
搜索关键词: | 用于 单向 离合器 粉末 金属 座圈 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种用于单向离合器的粉末金属离合器座圈部件,其包括:一经过压实和烧结的铁基粉末金属单向离合器座圈部件基体,其上具有一体形成的一座圈表面,所述基体的心部密度在6.8g/cc到7.6g/cc之间;所述离合器基体包括一粉末金属的冷加工层,形成所述座圈表面,其局部密度大于所述心部密度,且最终的平均表面光洁度Ra在20到35μ英寸之间。
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