[发明专利]具大发光角度的光源装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200910260518.8 申请日: 2009-12-11
公开(公告)号: CN101709842A 公开(公告)日: 2010-05-19
发明(设计)人: 姚源榕;林睿腾 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: F21S8/00 分类号: F21S8/00;F21V19/00;F21V5/00;F21V9/10;H01L33/50;H01L33/58;G02F1/13357;F21Y101/02
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 郭蔚
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种光源装置及其制造方法。光源装置包含有基座、发光芯片以及封装镜体。发光芯片设置于基座上;封装镜体则覆盖于基座上,并包围发光芯片。封装镜体的外表面主要包含两个部分:内环凸面及外环凸面。外环凸面包围在内环凸面外侧以围成一环形;内环凸面则围成一底窄口宽的锥状空间。发光芯片位于内环凸面于基座上的投影范围内;部分发光芯片产生的光线则被内环凸面直接反射至外环凸面,并在外环凸面处直接出射或折射而离开封装镜体。
搜索关键词: 发光 角度 光源 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
一种光源装置,包含:一基座;一发光芯片,设置于该基座上;以及一封装镜体,覆盖于该基座上并包围该发光芯片;该封装镜体具有一外表面,该外表面包含一内环凸面及一外环凸面,该外环凸面围绕该内环凸面;其中,该内环凸面围成底窄口宽的一第一空间;其中,该发光芯片位于该内环凸面于该基座上的投影范围内,该发光芯片产生的部分光线经由该内环凸面直接反射至该外环凸面,并直接自该外环凸面离开该封装镜体。
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