[发明专利]快闪存储器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200910265541.6 申请日: 2009-12-25
公开(公告)号: CN101771055A 公开(公告)日: 2010-07-07
发明(设计)人: 沈千万 申请(专利权)人: 东部高科股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 顾晋伟;王春伟
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种快闪存储器件和制造快闪存储器件的方法。快闪存储器件可包括在半导体衬底上方的隔离层和/或有源区、在有源区上方形成的存储栅极、在包括存储栅极的半导体衬底上方形成的控制栅极、和/或在包括控制栅极的半导体衬底上方形成的共同源极线接触。快闪存储器件可包括具有与位线有源区的间隔基本相同的间隔的源极板。源极板可包括其中可形成共同源极线接触的有源区。共同源极线接触可包括沿横过有源区的方向延伸的长对接接触。
搜索关键词: 闪存 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种器件,包括:在半导体衬底上方的隔离层和有源区;在所述半导体衬底上方的存储栅极、控制栅极和共同源极线接触中的至少一个;和源极板,其中所述源极板具有与位线的有源区的间隔基本相同的间隔。
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