[发明专利]半导体器件的制造方法以及半导体器件和电子装置在审
申请号: | 200910266230.1 | 申请日: | 2005-09-26 |
公开(公告)号: | CN101740584A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 山崎舜平 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/786;H01L21/84;H01L21/78 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 朱海煜;李家麟 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明半导体器件的制造方法以及半导体器件和电子装置。本发明的目标是容易地制造半导体器件并提供成本降低的半导体器件。根据本发明,通过提供在除去剥离层之后衬底和基底绝缘层牢固固定的区域,可以防止提供在基底绝缘层上的薄膜集成电路散落。因此,可以容易地制造包含薄膜集成电路的半导体器件。此外,由于根据本发明使用除了硅之外的衬底制造半导体器件,可以在同一时间制造大量的半导体器件,并可以提供成本降低的半导体器件。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 制造 方法 以及 电子 装置 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,包括:第一导电层;在第一导电层上提供的至少包含沟道形成区、源区和漏区的薄膜晶体管;覆盖所述薄膜晶体管的第一绝缘层;以及在第一绝缘层上提供的第二导电层,其中第二导电层通过在第一绝缘层中提供的第一开口电连接到所述薄膜晶体管的源区和漏区这两者之一,且通过在第一绝缘层中提供的第二开口电连接到第一导电层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910266230.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种混合气体燃烧机用风机电机
- 下一篇:输送超高温介质的磁力传动离心泵
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的