[发明专利]一种中空阴极电弧离子镀涂层系统无效
| 申请号： | 200910272501.4 | 申请日： | 2009-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN101698934A | 公开（公告）日： | 2010-04-28 |
| 发明（设计）人： | 杨兵;丁辉 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 武汉天力专利事务所 42208 | 代理人： | 程祥;冯卫平 |
| 地址： | 430072*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 一种中空阴极电弧离子镀涂层系统，包括真空室，真空室设有抽真空口，真空室内设有阴极电弧靶和工件架，所述真空室与地绝缘，真空室内壁装上靶材，与电源负极连接，形成中空阴极电弧靶；工件架位于中空阴极电弧靶所包围空间的中心区域。本发明与常规电弧离子镀技术不同，本发明采用可旋转的电磁线圈产生控弧磁场，线圈旋转的转速可以通过调整电机转速进行调整。本发明对常规电弧离子镀技术进行大幅度的改进，首次提出了中空阴极电弧离子镀技术。大幅度提高了涂层的沉积效率，简化了涂层设备。具有镀膜效率高、成本低、操作方便等特点。可以满足工业上超厚涂层的要求。具有较好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 中空 阴极 电弧 离子镀 涂层 系统 | ||
【主权项】：
一种中空阴极电弧离子镀涂层系统，包括真空室，真空室设有抽真空口，真空室内设有阴极电弧靶和工件架，其特征在于：所述真空室与地绝缘，真空室内壁装上靶材，与电源负极连接，形成中空阴极电弧靶；工件架位于中空阴极电弧靶所包围空间的中心区域。
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