[发明专利]一种用于前视导航制导的平面地标选择和参考图制备方法有效
申请号: | 200910273308.2 | 申请日: | 2009-12-18 |
公开(公告)号: | CN101726297A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 张天序;杨卫东;李成;毛麟;敖国庆;杨效余;万美君;汪小平;王登位;孙思远;郑璐璐;王曼 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G01C21/24 | 分类号: | G01C21/24;G06T3/00 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公布了一种用于前视导航制导的平面地标选择和参考图制备方法,具体为在飞行视点处计算传感器视场覆盖范围,在此范围内选取平面地物作为平面地标,选取的平面地标满足良好的形状显著性、几何可见性、局部反差性。选好平面地标后,制备该平面地标正射下视参考图,由该参考图制备多视点、多尺度的前视导航制导用参考图,并建立与其关联的特征参数库。本发明能有效解决在动平台条件下,目的地光学成像特征不可见或不显著时,飞行器利用前视成像装置获取场景平面地标,根据平面地标前视参考图导航到目的地的问题,为飞行器精确导航定位提供重要导航基准数据和方法支撑,提升前视导航制导定位的灵活性和可靠性。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 导航 制导 平面 地标 选择 参考 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种用于前视导航制导的平面地标选择方法,具体为:在飞行视点P处计算传感器视场覆盖范围,在此范围内选取平面显著性因子η、被遮挡因子μ和反差性因子C均满足用户设定要求的平面地物作为平面地标;其中,显著性因子 η = A S , A为在视点P下平面地物的投影面积,S为在视点P下成像传感器所成光学图像的面积;被遮挡因子 μ = A uo A , Auo为在视点P下平面地物的被遮挡面积;反差性因子 C = | I - E | E , I为在视点P下平面地物在光学图像中的平均亮度,E为在视点P下平面地物的邻域在光学图像中的平均亮度。
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