[发明专利]快门挡片的制作方法无效
| 申请号： | 200910301687.1 | 申请日： | 2009-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN101866093A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 庄信弘 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G03B9/08 | 分类号： | G03B9/08;G03F7/32;G03F7/00;G03F1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种制作快门挡片的方法，包括：提供铍铜基板，所述铍铜基板具有相对的第一表面和第二表面；在第一表面形成第一光阻层，在第二表面形成第二光阻层；对第一光阻层和第二光阻层进行曝光及显影，以使第一光阻层形成与快门挡片形状相对应的多个第一剩余光阻，使第二光阻层形成与快门挡片形状相对应的多个第二剩余光阻，并且每个第一剩余光阻均与一个第二剩余光阻相对应；采用氯化铜的酸性溶液对所述铍铜基板进行蚀刻，从而得到多个分离的快门挡片结构，每个快门档片结构均包括一个第一剩余光阻、一个第二剩余光阻以及一个位于第一剩余光阻和第二剩余光阻之间的快门档片；去除每个快门挡片结构的第一剩余光阻及第二剩余光阻，得到多个快门挡片。 | ||
| 搜索关键词： | 快门 制作方法 | ||
【主权项】：
一种制作快门挡片的方法，包括：提供铍铜基板，所述铍铜基板具有相对的第一表面和第二表面；在所述第一表面形成第一光阻层，在所述第二表面形成第二光阻层；对第一光阻层和第二光阻层进行曝光及显影，以使第一光阻层形成与快门挡片形状相对应的多个第一剩余光阻，使第二光阻层形成与快门挡片形状相对应的多个第二剩余光阻，并且每个第一剩余光阻均与一个第二剩余光阻相对应；采用氯化铜的酸性溶液对所述铍铜基板进行蚀刻，从而得到多个分离的快门挡片结构，每个快门档片结构均包括一个第一剩余光阻、一个第二剩余光阻以及一个位于第一剩余光阻和第二剩余光阻之间的快门档片；去除每个快门挡片结构的第一剩余光阻及第二剩余光阻，得到多个快门挡片。
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