[发明专利]磁控溅射靶座及具有该磁控溅射靶座的磁控溅射装置无效
| 申请号： | 200910303647.0 | 申请日： | 2009-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN101928928A | 公开（公告）日： | 2010-12-29 |
| 发明（设计）人： | 蔡泰生 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种用于承载一靶材的磁控溅射靶座，其包括磁铁组件、冷却水路及承载件。承载件用于承载磁铁组件及冷却水路并使磁铁组件抵持靶材的表面。磁铁组件包括多排间隔设置的磁柱组，每排磁柱组均包括多个收容在承载件上的磁柱，同一排磁柱组中的所有磁柱的同性磁极的朝向相同以共同形成一磁极，相邻两排的磁柱组形成的磁极相反。冷却水路绕设于该多排磁柱组之间。所述磁控溅射靶座，通过多排间隔收容于承载件上的磁柱组形成多个磁场及绕设于该多排磁柱组之间的冷却水路，增大电离气体分子利用多个磁场撞击靶材表面的有效面积及冷却靶材的有效面积，提升靶材的利用率及冷却效果。本发明还涉及一种具有该磁控溅射靶座的磁控溅射装置。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 具有 装置 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射靶座，其用于承载一靶材，该磁控溅射靶座包括一磁铁组件、一冷却水路及一承载件，该承载件用于承载该磁铁组件及该冷却水路并使该磁铁组件抵持该靶材的表面，其特征在于，该磁铁组件包括多排间隔收容于该承载件上的磁柱组，每排磁柱组均包括多个收容于该承载件上的磁柱，同一排磁柱组中的所有磁柱的同性磁极的朝向相同以共同形成一磁极，相邻两排的磁柱组形成的磁极相反，该冷却水路绕设于相邻两排的磁柱组之间。
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