[发明专利]真空溅射装置无效
| 申请号： | 200910306812.8 | 申请日： | 2009-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN102021521A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 王仲培;吴佳颖 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种真空溅射装置，其用于对基材镀膜。该真空溅射装置包括内空的第一屏蔽罩以及第二屏蔽罩，第一屏蔽罩与第二屏蔽罩之间设置有一第一阀门，第一阀门用于控制第一屏蔽罩与第二屏蔽罩隔开或连通。第一屏蔽罩上开设有一抽真空孔，其用于在每次打开第一阀门前，通过一真空装置将第一屏蔽罩内部抽为真空。第二屏蔽罩的内侧壁上设置有多个靶材。第一屏蔽罩在与第一阀门相对的底面上设置有包括一轴向气压缸以及一支撑轴的升降装置。基材设置在支撑轴远离轴向气压缸的端部且朝向所述第二屏蔽罩。轴向气压缸与第一屏蔽罩固定连接，其用于控制所述支撑轴相对第二屏蔽罩往返运动。该真空溅射装置能够提高镀膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 溅射 装置 | ||
【主权项】：
一种真空溅射装置，其用于对基材镀膜，其特征在于，所述真空溅射装置包括内空的第一屏蔽罩以及第二屏蔽罩，所述第一屏蔽罩与所述第二屏蔽罩之间设置有一第一阀门，所述第一阀门用于控制所述第一屏蔽罩与所述第二屏蔽罩隔开或连通；所述第一屏蔽罩上开设有一抽真空孔，其用于在每次打开第一阀门前，通过一真空装置将第一屏蔽罩内部抽为真空，所述第二屏蔽罩的内侧壁上设置有多个靶材；所述第一屏蔽罩在与第一阀门相对的底面上设置有一升降装置，所述升降装置包括一轴向气压缸以及一支撑轴，所述基材设置在支撑轴远离轴向气压缸的端部且朝向所述第二屏蔽罩，所述轴向气压缸固定在第一屏蔽罩上，其用于控制所述支撑轴相对所述第二屏蔽罩往返运动，使得基材进入第二屏蔽罩与靶材相对或者从第二屏蔽罩回到第一屏蔽罩内。
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