[发明专利]环氧树脂中空微针阵列的制备方法无效

专利信息
申请号: 200910308196.X 申请日: 2009-10-12
公开(公告)号: CN101664579A 公开(公告)日: 2010-03-10
发明(设计)人: 蒋宏民;朱军;曹莹;杨君;陈翔 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: A61M37/00 分类号: A61M37/00;A61B10/00;B81C5/00
代理公司: 上海交达专利事务所 代理人: 王锡麟;王桂忠
地址: 200240上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种微型电子机械系统技术领域的环氧树脂中空微针阵列的制备方法,采用倾斜旋转与传统光刻有机结合的方法制备SU-8三维微结构,通过调整支架的高度,获得0-90度的支架倾角,然后在水平基板上放置电机,由电机带动粘附在其上的基片自由旋转,并通过外加在电机上直流电压控制转速,将聚二甲基硅氧烷填充到SU-8三维微结构的模具中,脱模后得到中空微针阵列,在中空微针阵列上溅射金属铬铜复合后再次填充聚二甲基硅氧烷,脱模后得到中空微针阵列模具,在该模具上填充环氧树脂,然后将底部磨至聚二甲基硅氧烷后脱模,即可得到环氧树脂空心微针阵列,制备所得微针的锥形光滑,具有较好的尖端,工作时对皮肤的损伤小。
搜索关键词: 环氧树脂 中空 阵列 制备 方法
【主权项】:
1.一种环氧树脂中空微针阵列的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:第一步,在玻璃基片上旋涂SU8胶,将基片倾斜,在倾斜基片和掩模版并设置微针的顶角为基片和掩模版的倾斜角度的两倍,然后进行紫外光旋转曝光;第二步,将基片和掩模版经热烘处理后在基片表面甩涂第二层SU8光刻胶,然后再次经热烘处理后进行旋转曝光,最后经第三次热烘处理后,显影得到SU8胶凹锥结构层;第三步,在SU8胶凹锥结构层上制备下模层,然后在下模层上溅射制得铬铜复合金属层;第四步,在铬铜复合金属层上采用与第三步相同的方式制备上模层,得到完整空心微针阵列模具,在空心微针阵列模具中填充环氧树脂,经真空固化后进行打磨处理,经脱模后得到环氧树脂中空微针阵列。
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