[发明专利]一种低电压有机薄膜晶体管及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200910312759.2 申请日: 2009-12-31
公开(公告)号: CN102117887A 公开(公告)日: 2011-07-06
发明(设计)人: 商立伟;姬濯宇;刘明 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 王建国
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种低电压有机薄膜晶体管及其制备方法,属于有机电子技术领域。所述有机薄膜晶体管包括:绝缘衬底、在绝缘衬底上的栅电极、覆盖绝缘衬底和栅电极的栅介质、在栅介质上的源电极和漏电极,以及覆盖栅介质和源、漏电极的有机半导体层。所述方法包括:首先,在绝缘衬底上制备栅电极;其次,在绝缘衬底和栅电极的表面制备介质层;然后,在介质层上制备源、漏电极;最后,在介质层和源电极、漏电极上沉积有机半导体层,完成器件的制备。本发明采用原子层沉积法制备较薄的金属氧化物薄膜作为介质层,大幅度增加了有机薄膜晶体管器件的电容,从而降低器件的电压,获得低工作电压的有机薄膜晶体管。
搜索关键词: 一种 电压 有机 薄膜晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
一种低电压有机薄膜晶体管,其特征在于,所述有机薄膜晶体管包括:绝缘衬底(101)、栅电极(102)、栅介质(103)、有机半导体层(104)、源电极(105)和漏电极(106);其中:所述绝缘衬底(101)位于所述有机薄膜晶体管器件的底层,所述栅电极(102)位于所述绝缘衬底(101)之上,所述栅介质(103)覆盖所述绝缘衬底(101)和栅电极(102),在所述栅介质(103)表面制备有所述源电极(105)和漏电极(106);所述源电极(105)和漏电极(106)各自覆盖所述栅介质(103)的顶面;所述有机半导体层(104)覆盖所述栅介质(103)、源电极(105)和漏电极(106)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910312759.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top