[实用新型]蚀刻设备有效
申请号: | 200920006951.4 | 申请日: | 2009-03-16 |
公开(公告)号: | CN201381279Y | 公开(公告)日: | 2010-01-13 |
发明(设计)人: | 李玟澄;陈麒文;朱德铭 | 申请(专利权)人: | 亚智科技股份有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 北京华夏博通专利事务所 | 代理人: | 刘 俊;孙东风 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种蚀刻设备,主要特征在于浸泡槽上方平均设置多个个喷源,喷源接受一药液工作槽的供给;浸泡槽内面两侧分别设置一入料浮动轮及一出料浮动轮,浮动轮分别重叠于一平台上;另在浸泡槽外侧对应浮动轮处分别设置一风刀。当玻璃基板通过入料浮动轮,该风刀便提供高速强劲的风来限制浸泡槽内的药液不至于溢出,待玻璃基板完全进入浸泡槽,送料导轮被控制带动基板微幅的往复移动进行浸泡,同时喷源对基板喷洒药液,藉此,可使玻璃基板表面得到均匀的药液接触,以及使基板表面接受药液更新的时间相同。 | ||
搜索关键词: | 蚀刻 设备 | ||
【主权项】:
1.一种蚀刻设备,其特征在于,该设备包含: 一浸泡槽,其内面两侧分别设有一入料浮动轮及一出料浮动轮; 一送料导轮,用以承载一基板,使该基板可通过该入料浮动轮而进入该浸泡槽; 一喷洒统,其为该浸泡槽的外接系统,包含有一药液工作槽以及接受该药液工作槽供应药液的多个喷源,喷源是平均设置并相应于该浸泡槽上方,该药液工作槽与该浸泡槽之间以管路相连以补给或回收药液; 该喷洒统与该送料导轮受蚀刻设备中的一电控部所控制。
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