[实用新型]一种带有补偿斜靶的真空磁控溅射镀膜机无效
| 申请号： | 200920016190.0 | 申请日： | 2009-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN201442976U | 公开（公告）日： | 2010-04-28 |
| 发明（设计）人： | 渠洪波 | 申请（专利权）人： | 沈阳科友真空技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 俞鲁江 |
| 地址： | 110111 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种带有补偿斜靶的真空磁控溅射镀膜机，为了消除成膜时复杂外形产品的阴影区，改善产品表面成膜均匀性，一方面，采用行星齿轮结构悬挂杆完成工件的公转和自转，另一方面，在样品悬挂架(8)的上下两侧，柱状磁控靶之间安装有对称的补偿斜靶，由于样品架加载偏压，故磁控靶靶材成膜材料可以从多方向沉积到产品基片上。通过联合应用多功能样品悬挂架和补偿斜靶，可以有效的消除镀膜死角，提高成膜质量，可镀制复杂外形的产品基片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 带有 补偿 真空 磁控溅射 镀膜 | ||
【主权项】：
一种带有补偿斜靶的真空磁控溅射镀膜机，包括依次布置在工作空间内的烘烤室(3)、工件预悬挂台(7)、真空镀膜室(17)及样品悬挂架转运车(4)，所述样品悬挂架转运车(4)上方为样品悬挂架托车(5)及其托车轨道(6)；在工件预悬挂台(7)上方、烘烤室(3)、真空镀膜室(17)的室内底部相应位置同样安装有托车轨道(6)，所述工件预悬挂台(7)、烘烤室(3)和真空镀膜室(17)三工位的托车轨道(6)相连接；所述工件预悬挂台(7)的托车轨道上设置样品悬挂架(8)；所述真空镀膜室(17)内部装有多组柱状旋转磁控靶(16)，真空镀膜室(17)内上下中心有与样品悬挂架(8)对接的轴承组件(21)，真空镀膜室(17)外接抽真空系统，真空镀膜室(17)门上有装有多个观察窗(18)，其特征在于：在样品悬挂架(8)的上下两侧柱状磁控靶(16)之间安装有对称的补偿斜靶(15)。
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