[实用新型]一种用于半导体晶片加工的化蜡装置无效

专利信息
申请号: 200920029733.2 申请日: 2009-07-15
公开(公告)号: CN201435382Y 公开(公告)日: 2010-03-31
发明(设计)人: 满忠斌;娄娟 申请(专利权)人: 山东华光光电子有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;B28D5/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 250101山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型提供了一种用于半导体晶片加工的化蜡装置,该化蜡装置包括电加热盘、液蜡暂存锅和陶瓷化蜡筒,液蜡暂存锅连接在电加热盘上,液蜡暂存锅的上端设有锅盖,下部设有带阀门的出液口,陶瓷化蜡筒安装在锅盖的底面,陶瓷化蜡筒的外壁上包覆有电热丝,陶瓷化蜡筒的下端设有滤纸。液蜡暂存锅内设有液位计。本实用新型采用电加热化蜡,使固态蜡在封闭的环境中熔化,并使熔化的液态蜡经过过滤后使用,集化蜡与虑蜡于一体,提高了液态蜡的纯净度,提高了化蜡效率。
搜索关键词: 一种 用于 半导体 晶片 加工 装置
【主权项】:
1.一种用于半导体晶片加工的化蜡装置,包括电加热盘、液蜡暂存锅和陶瓷化蜡筒,其特征是:液蜡暂存锅连接在电加热盘上,液蜡暂存锅的上端设有锅盖,下部设有带阀门的出液口,陶瓷化蜡筒安装在锅盖的底面,陶瓷化蜡筒的外壁上包覆有电热丝,陶瓷化蜡筒的下端设有滤纸。
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