[实用新型]膜式框架制氧装置无效
| 申请号： | 200920034167.4 | 申请日： | 2009-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN201445900U | 公开（公告）日： | 2010-05-05 |
| 发明（设计）人： | 魏昕;王振勋;田双锋 | 申请（专利权）人： | 西安氧源电子有限公司 |
| 主分类号： | B01D53/22 | 分类号： | B01D53/22;C01B13/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 膜式框架制氧装置，包括一框架(1)，框架(1)上有两个位于同一个方向出气孔(2)，框架(1)内壁厚度为2.5-3.5mm，内部设置有丝网(3)，框架(1)的两侧粘接有高分子膜(4)，本实用新型工作时利用丝网(3)的孔隙，使氧气在其中气路短、溶透快，膜有效率高，从而提高了采氧浓度和膜单位面积出氧量。 | ||
| 搜索关键词： | 框架 装置 | ||
【主权项】：
膜式框架制氧装置，其特征在于，包括一框架(1)，框架(1)上有两个出气孔(2)，框架(1)的内壁上设置有丝网(3)，框架(1)的两侧粘接有高分子膜(4)。
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