[实用新型]纳米分散研磨机无效

专利信息
申请号: 200920037184.3 申请日: 2009-02-20
公开(公告)号: CN201366369Y 公开(公告)日: 2009-12-23
发明(设计)人: 边浩光 申请(专利权)人: 边浩光
主分类号: B02C23/02 分类号: B02C23/02;B02C19/20
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所 代理人: 殷红梅
地址: 214181江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及纳米分散研磨机,在箱体上横向转动架设有主轴,在箱体侧壁设有固定座,在固定座内设有机械密封固定座,在机械密封固定座上设有上、下方机械密封,在固定座侧壁设有研磨腔法兰,在研磨腔法兰内设有隔绝环,在研磨腔法兰上通过研磨腔内套固定有腔体盖板,在研磨腔体内具有研磨微珠,在主轴一端部通过轴端盖板套固定有研磨分级轮,在研磨腔内套下端侧壁上固定有进料管道,在研磨腔内套上端侧壁上固定有研磨微珠加料管,在研磨微珠加料管的进口端扣盖有加料口盖体,在腔体盖板上设有排污口,在排污口上扣盖有排污口盖体,在进料管道上设有浮球阀,在主轴内开设有出料孔,在研磨分级轮中心处设有与出料孔连通的细料出口。
搜索关键词: 纳米 分散 研磨机
【主权项】:
1、一种纳米分散研磨机,包括在箱体(2)上横向转动架设有主轴(1),在箱体(2)侧壁设有固定座(10),在固定座(10)内设有机械密封固定座(11),在机械密封固定座(11)上围绕主轴(1)设有上方机械密封(3)与下方机械密封(24),在固定座(10)侧壁设有研磨腔法兰(13),在研磨腔法兰(13)内设有内壁抵在上方机械密封(3)与下方机械密封(24)上的隔绝环(12),该隔绝环(12)与机械密封固定座(11)侧壁相靠,在研磨腔法兰(13)上通过研磨腔内套(15)固定有腔体盖板(17),使得腔体盖板(17)、研磨腔内套(15)与隔绝环(12)组合形成研磨腔体(7),在研磨腔体(7)内设有研磨微珠(22),在主轴(1)一端部通过轴端盖板套(16)固定有处于研磨腔体(7)内的研磨分级轮(4),主轴(1)另一端部设有驱动轮(23),在研磨腔内套(15)下端侧壁上固定有进料管道(20),在研磨腔内套(15)上端侧壁上固定有研磨微珠加料管(5),在研磨微珠加料管(5)的进口端扣盖有加料口盖体(18),在腔体盖板(17)上设有排污口(6),在排污口(6)上扣盖有排污口盖体(19),其特征是:在进料管道(20)上设有浮球阀(8),在主轴(1)内开设有出料孔(9),在研磨分级轮(4)中心处设有与出料孔(9)连通的细料出口(25)。
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