[实用新型]自屏蔽式电子加速器辐照室无效

专利信息
申请号: 200920041910.9 申请日: 2009-03-25
公开(公告)号: CN201392671Y 公开(公告)日: 2010-01-27
发明(设计)人: 曾华;吴燕伟;赵华;杨咏梅 申请(专利权)人: 无锡爱邦辐射技术有限公司
主分类号: G21F7/00 分类号: G21F7/00;G21F1/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214151江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种自屏蔽式电子加速器辐照室。包括底座,底座上有用于构成辐照室的围墙,围墙的上端有顶盖,围墙的上下端分别与顶盖和底座间呈密封状连接。围墙上有门口,门口内有门板。所述底座为混凝土底座,底座的上表面有凹坑,凹坑的外侧有周向凹槽。其特征在于所述围墙、顶盖和门板均是用至少两层钢板复合而成,围墙下边呈密封状嵌入周向凹槽内。这种电子加速器辐照室,体积小、占地面积小,适用范围不受限制。适用于对产品进行辐照加工。
搜索关键词: 屏蔽 电子 加速器 辐照
【主权项】:
1.自屏蔽式电子加速器辐照室,包括底座(8),底座(8)上有用于构成辐照室的围墙(2),围墙(2)的上端有顶盖(3),围墙(2)的上下端分别与顶盖(3)和底座(8)间呈密封状连接;围墙(2)上有门口,门口内有门板(10);所述底座(8)为混凝土底座,其上表面有凹坑(1),凹坑(1)的外侧有周向凹槽;其特征在于所述围墙(2)、顶盖(3)和门板(10)均是用至少两层钢板复合而成,围墙(2)下边呈密封状嵌入周向凹槽内。
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