[实用新型]多室连续真空镀膜装置无效

专利信息
申请号: 200920056199.4 申请日: 2009-05-11
公开(公告)号: CN201447502U 公开(公告)日: 2010-05-05
发明(设计)人: 钟肇兰 申请(专利权)人: 钟肇兰
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 526020 广东省肇庆*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种多室连续真空镀膜装置,包括有依次串联、由6台阀门隔开的以下的、进片真空室2-前缓冲真空室4-前过渡真空室6-镀膜真空室8-后过渡真空室9-后缓冲真空室11-出片真空室13;在镀膜真空室8里,装设有若干条的靶条7;各真空室连接有真空发生装置,包括连接在进、出片真空室的前、后初级抽真空系统16、22、连接在前、后缓冲真空室的前、后缓冲深度排气系统17,21,连接在前、后过渡真空室的前、后深度排气系统18和20,和连接在镀膜真空室的镀膜深度排气系统19。本实用新型装置真空度平稳、不波动,镀膜质量好,缩短了在进、出片室的排气时间,提高生产效率,真空室的配置合理、效率高。适用于各种连续生产的真空镀膜装置。
搜索关键词: 连续 真空镀膜 装置
【主权项】:
一种多室连续真空镀膜装置,包括通过两者之间的阀门相互串联,且旁接有真空发生装置的多个真空室、所连接成的一种连续真空镀膜的装置,其特征在于,所述的多个真空室和多个串联的阀门,包括有依次串联的以下设备:阀门I(1)-进片真空室(2)-阀门II(3)-前缓冲真空室(4)-阀门III(5)-前过渡真空室(6)-镀膜真空室(8)-后过渡真空室(9)-阀门IV(10)-后缓冲真空室(11)-阀门V(12)-出片真空室(13)-阀门VI(14);在镀膜真空室(8)里,装设有1条或若干条作为溅射镀层材料的靶条(7);所述的真空发生装置,包括分别连接在各个真空室之上的、初级抽真空系统和深度排气系统;当中有连接在进片真空室(2)的前初级抽真空系统(16),连接在出片真空室(13)的后初级抽真空系统(22);连接在前缓冲真空室(4)的前缓冲深度排气系统(17),连接在前过渡真空室(6)的前深度排气系统(18),连接在镀膜真空室(8)的镀膜深度排气系统(19),连接在后过渡真空室(9)的后深度排气系统(20),以及连接在后缓冲真空室(11)上的后缓冲深度排气系统(21),这些系统通过真空阀门,真空泵以及相应的真空管道,而连接成真空发生系统的。
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