[实用新型]多光束高占空比合束器有效

专利信息
申请号: 200920065407.7 申请日: 2009-07-29
公开(公告)号: CN201514514U 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 刘泽金;许晓军;陈金宝;马阎星;周朴;王小林;马浩统;王建华;郭少锋;吴武明;姜宗福 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科学技术大学
主分类号: G02B27/14 分类号: G02B27/14
代理公司: 湖南省国防科学技术工业办公室专利中心 43102 代理人: 冯青
地址: 410073 *** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 实用新型涉及一种多光束合束器,尤其是一种高占空比合束器。该合束器包括基座1和45度高反镜2,基座1包括若干层台阶,每级台阶上设置凹槽。利用台阶状基座和45度高反镜实现了光束合成时纵向拼接和横向拼接的解耦,同时压缩了光束间的距离。可实现任意多光束、任意排列、超高占空比的合束。
搜索关键词: 光束 高占空 合束器
【主权项】:
多光束高占空比合束器,包括基座(1)和45度高反镜(2),其特征在于基座(1)包括若干层台阶,每级台阶上设有凹槽。
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