[实用新型]一种用于硅薄膜均匀沉积的布气盒

摘要

本实用新型公开了一种用于硅薄膜均匀沉积的布气盒，包括：布气板(1)，位于射频电极的下侧；位于所述布气板(1)下端的多个腔体(6)，所述腔体和腔体之间具有多个进气孔(3)，所述腔体(6)的底面上具有多个排气元件；以及位于所述腔体(6)下端的用于沉积硅薄膜的基板(5)。通过上述结构，本实用新型的用于硅薄膜均匀沉积的布气盒可以达到如下目的：通过使排气孔均匀分布于进气孔周围，以使通过进气孔的气体和部分气体离解产生的有害SiH₂基团及时的由设置于布气板底端的排气孔排出，保证在整个基片区域里等离子体成分的均一性，从而实现大面积硅薄膜的均匀沉积。

主权项

1、一种用于硅薄膜均匀沉积的布气盒，其特征在于，包括：布气板(1)，位于射频电极的下侧；位于所述布气板(1)下端的多个腔体(6)，所述腔体和腔体之间具有多个进气孔(3)，所述腔体(6)的底面上具有多个排气元件；以及位于所述腔体(6)下端的用于沉积硅薄膜的基板(5)。