[实用新型]涂胶显影机清洁装置有效
| 申请号： | 200920070373.0 | 申请日： | 2009-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN201392817Y | 公开（公告）日： | 2010-01-27 |
| 发明（设计）人： | 张建峰;蔡奇澄;张书庆;张健;卢健;王军 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02;B08B15/04 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种涂胶显影机清洁装置，包括顶层基架，滑板以及底部基板，所述顶层基架固定在显影机的机台上，所述顶层基架上设有若干通孔，两侧分别设有折弯部；所述底部基板的表面上分布有若干风扇，在风扇位置处设有相应的开口，所述底部基板与所述折弯部连接；所述滑板位于所述底部基板和顶层基架形成的收容空间内，所述滑板上设有开孔，所述通孔与所述开孔位置相对应，固定在所述底部基板上的风扇与所述通孔的位置相对应。通过在涂胶显影机上增加了涂胶显影机杂质清洁装置，启动涂胶显影机杂质清洁装置上的风扇旋转，将涂胶杂质抽出至外部环境，避免了污染，使得后续的刻蚀和沉积工艺中造成的球状缺陷得以克服，提高产品良率，节省成本。 | ||
| 搜索关键词： | 涂胶 显影 清洁 装置 | ||
【主权项】：
1.涂胶显影机清洁装置，包括顶层基架，滑板以及底部基板，所述顶层基架固定在显影机的机台上，其特征在于：所述顶层基架上设有若干通孔，两侧分别设有折弯部；所述底部基板的表面上分布有若干风扇，在所述风扇位置处设有相应的开口，所述底部基板与所述折弯部连接；所述滑板位于所述底部基板和顶层基架形成的收容空间内，所述滑板上设有开孔。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
