[实用新型]夹具及相应的掩模板组件有效
| 申请号： | 200920070375.X | 申请日： | 2009-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN201464800U | 公开（公告）日： | 2010-05-12 |
| 发明（设计）人： | 卢子轩 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种夹具及相应的掩模板组件，所述夹具用以将表膜框架固定在掩模板上，所述表膜框架的上表面具有一卡槽，所述夹具包括：第一固定部，与所述掩模板相匹配，卡合在所述掩模板的边沿；以及第二固定部，与所述第一固定部连接，并与所述表膜框架相匹配，插入所述卡槽内以固定所述表膜框架的位置。所述夹具结构简单，可将表膜框架牢靠的固定在掩模板上，且装卸方便，提高了表膜以及掩模板的使用寿命，节约了生产成本，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 夹具 相应 模板 组件 | ||
【主权项】：
一种夹具，用以将表膜框架固定在掩模板上，所述表膜框架的上表面具有一卡槽，其特征在于，所述夹具包括：第一固定部，与所述掩模板相匹配，卡合在所述掩模板的边沿；以及第二固定部，与所述第一固定部连接，并与所述表膜框架相匹配，插入所述卡槽内以固定所述表膜框架的位置。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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