[实用新型]后处理装置无效
| 申请号： | 200920090260.7 | 申请日： | 2009-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN201433245Y | 公开（公告）日： | 2010-03-31 |
| 发明（设计）人： | 薛宏伟;周晓波;孟社超;周建新 | 申请（专利权）人： | 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 |
| 主分类号： | C25C7/00 | 分类号： | C25C7/00 |
| 代理公司： | 郑州联科专利事务所（普通合伙） | 代理人： | 时立新 |
| 地址： | 472500*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 后处理装置，包括交替设置的液槽和水槽，液槽和水槽底部设有液下辊且上沿设有导电辊，铜箔依次绕过导电辊和液下辊的异侧设置，液槽内设有阳极板，液槽内设置一个液下辊，阳极板的倾斜角度与导电辊和液下辊之间的铜箔的倾斜角度相当；阳极板与导电辊和液下辊之间的铜箔相平行设置。采用了这种结构后，大大降低了设备的故障率，减少了停机次数，产生压坑的机会明显减少，降低了维修成本，提高了生产效率。阳极板的倾斜角度与导电辊和液下辊之间的铜箔的倾斜角度相当，保证极距的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
1、后处理装置，包括交替设置的液槽和水槽，液槽和水槽底部设有液下辊且上沿设有导电辊，铜箔依次绕过导电辊和液下辊的异侧设置，液槽内设有阳极板，其特征在于：液槽内设置一个液下辊，阳极板的倾斜角度与导电辊和液下辊之间的铜箔的倾斜角度相当。
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