[实用新型]一种等离子体化学气相沉积设备中的进气控制装置有效
申请号: | 200920095019.3 | 申请日: | 2009-12-17 |
公开(公告)号: | CN201567372U | 公开(公告)日: | 2010-09-01 |
发明(设计)人: | 张继泽;刘万学;王巍;程明辉;朱艳伟;曲爽;杨帅 | 申请(专利权)人: | 吉林庆达新能源电力股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 吉林省长春市新时代专利商标代理有限公司 22204 | 代理人: | 石岱 |
地址: | 136001 *** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种太阳能电池生产设备中的进气控制装置,具体的说是一种等离子体化学气相沉积设备的进气控制装置。该进气控制装置包括通气管路、温度探棒、加热探棒、电磁阀、PLC控制器,所述的温度探棒、加热探捧和电磁阀设置在进气管内,温度探棒、加热探捧和电磁阀与PLC控制器电连接。本实用新型由于采用上述结构和独特的控制方法,使控制气体的进气量能够更加精确,控制方便,便于对工艺参数的调节。达到了对生产线对进气控制的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子体 化学 沉积 设备 中的 控制 装置 | ||
【主权项】:
一种等离子体化学气相沉积设备中的进气控制装置,其特征在于:该进气控制装置包括通气管路(1)、温度探棒(2)、加热探棒(3)、电磁阀(4)、PLC控制器(5),所述的温度探棒(2)、加热探捧(3)和电磁阀(4)设置在进气管内,温度探棒(2)、加热探捧(3)和电磁阀(4)与PLC控制器(5)电连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的