[实用新型]一种光刻机硅片台双台交换装置有效
| 申请号： | 200920105252.5 | 申请日： | 2009-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN201364459Y | 公开（公告）日： | 2009-12-16 |
| 发明（设计）人： | 朱煜;张鸣;汪劲松;李广;徐登峰;尹文生;段广洪;贾松涛 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H02K41/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084北京市100*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种光刻机硅片台双台交换装置，该装置含有基台，运行于预处理工位硅片台，运行于曝光工位的硅片台。在基台两侧长边边缘分别设置有一条直线电机定子与两个X方向运动的单自由度驱动单元组成直线电机，一条Y方向的导轨穿过硅片台，Y方向的导轨分别与基台两侧的X方向运动的单自由度驱动单元联结，共同驱动硅片台在X-Y平面运动，在基台下方装有大功率旋转电机，在两硅片台完成预处理和曝光运动后，旋转整个基台，以完成硅片台工位的交换。本实用新型避免了只有硅片台参与交换所带来的要求极高的导轨对接精度，以及需增加对接辅助装置等缺陷，大大简化了系统结构；二是该系统双台交换采用4个完全相同的单自由度驱动单元实现，系统的复杂性大大降低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 硅片 台双台 交换 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机硅片台双台交换装置，该装置含有运行于曝光工位(3)的硅片台(18)和运行于预处理工位(2)的硅片台(17)，所述的两个硅片台设置在一基台(1)上，其特征在于：在所述的基台下层设置有一个大功率旋转电机(16)；所述在基台(1)两侧长边两侧长边边缘X方向分别设置有一条直线电机定子磁钢(8)和直线电机定子磁钢(9)，由X方向运动的第一单自由度驱动单元(4)和第二单自由度驱动单元(5)共用直线电机定子磁钢(8)；所述由X方向运动的第三单自由度驱动单元(6)和第四单自由度驱动单元(7)共用直线电机定子磁钢(9)；所述Y方向的导轨(14)分别与X方向运动的第一单自由度驱动单元(4)和第三单自由度驱动单元(6)联结，共同驱动硅片台17在X-Y平面运动；所述Y方向的导轨(15)分别与X方向运动的第二单自由度驱动单元(5)和第四单自由度驱动单元(7)联结，共同驱动硅片台18在X-Y平面运动；所述在基台(1)周围分别布置有测量X方向位移的双频激光干涉仪(10)和(12)，测量Y方向位移的双频激光干涉仪(11)和(13)。
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