[实用新型]双面辐射制膜箱有效

专利信息
申请号: 200920108093.4 申请日: 2009-05-25
公开(公告)号: CN201415459Y 公开(公告)日: 2010-03-03
发明(设计)人: 杨大伟 申请(专利权)人: 杨大伟
主分类号: B29C41/46 分类号: B29C41/46;B29L7/00
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 代理人: 孙皓晨;贺华廉
地址: 100070北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种双面辐射制膜箱,包括由恒温层构成的箱体,该箱体上方设有可开合的顶盖,箱体内的顶部设有顶部定向辐射加热器,底部设有底部定向辐射加热器,在顶部定向辐射加热器和底部定向辐射加热器之间设置有托架,托架上放置托盘。本实用新型的双面辐射制膜箱可用于蒸发制膜,使得物料加热更加均匀,效率更高,蒸发制膜速度更快。
搜索关键词: 双面 辐射 制膜箱
【主权项】:
1、一种双面辐射制膜箱,其特征在于,包括由恒温层构成的箱体,该箱体上方设有可开合的顶盖,该箱体内的顶部设有顶部定向辐射加热器,底部设有底部定向辐射加热器,在该顶部定向辐射加热器和该底部定向辐射加热器之间设置有托盘。
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1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

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