[实用新型]半导体研磨清洁装置无效

专利信息
申请号: 200920150479.1 申请日: 2009-05-08
公开(公告)号: CN201410642Y 公开(公告)日: 2010-02-24
发明(设计)人: 陈庆昌 申请(专利权)人: 陈庆昌
主分类号: B24B55/00 分类号: B24B55/00;H01L21/304
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 代理人: 王月玲;武玉琴
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种半导体研磨清洁装置,应用于化学机械研磨制程中,借以清洁晶圆的表面,而该研磨清洁装置包括有一底座体以及三个设置于该底座体上的刷头元件,该底座体的两端接合所述刷头元件,而该底座体两端之间接合有一个刷头元件,其中该三个刷头元件位于同一平面,且接合于该底座体两端的刷头元件的排列方向垂直于位于该底座体两端之间的刷头元件的排列方向。本实用新型在化学机械研磨制程中,提供清洁的功能且能与目前业界使用的化学机械研磨设备互相组装结合,故更方便使用;对于不同尺寸晶圆皆可应用本实用新型的半导体研磨清洁装置来加以清洁晶圆平坦研磨中的表面。
搜索关键词: 半导体 研磨 清洁 装置
【主权项】:
1、一种半导体研磨清洁装置,应用于化学机械研磨制程中,该半导体研磨清洁装置接触一晶圆的表面,以清洁该晶圆平坦研磨中的表面,其特征在于,该半导体研磨清洁装置包含有:一底座体;以及三个刷头元件,间隔地设置于所述底座体上,且该三个刷头元件皆位于同一平面并接触该晶圆的表面,其中设置于所述底座体上的该三个刷头元件呈现出十字形方向排列。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陈庆昌,未经陈庆昌许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200920150479.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top