[实用新型]曝光机无效
申请号: | 200920164339.X | 申请日: | 2009-06-30 |
公开(公告)号: | CN201438259U | 公开(公告)日: | 2010-04-14 |
发明(设计)人: | 徐福润 | 申请(专利权)人: | 景兴精密机械有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H05K3/00 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 | 代理人: | 周春发;艾晶 |
地址: | 中国台湾桃园*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型曝光机主要在一曝光平台的两个相对应侧分别设有一第一线性滑轨,另有至少一第二线性滑轨跨设于两个第一线性滑轨之间,该至少一第二线性滑轨上设有一光源组用以产生朝向曝光平台照射的曝光光源;以及,设有一第一驱动组件用以带动第二线性滑轨沿着第一线性滑轨位移,设有第二驱动组件用以带动光源组沿着第二线性滑轨位移,让曝光光源到达曝光平台的预定区域,而对曝光平台上的被加工物进行曝光显影。 | ||
搜索关键词: | 曝光 | ||
【主权项】:
一种曝光机,其特征在于,包括有:一供承载被加工物及原稿的曝光平台;两个第一线性滑轨,呈平行状态分别配设在该曝光平台的两个相对应侧;至少一第二线性滑轨,横跨于该两个第一线性滑轨之间;至少一用以产生朝向该曝光平台照射的曝光光源的光源组,设于该至少一第二线性滑轨上;至少一用以带动该第二线性滑轨沿着该第一线性滑轨位移的第一驱动组件;至少一用以带动各光源组沿着所属第二线性滑轨位移的第二驱动组件;以及,设定该至少一第二线性滑轨与该至少一光源组移动行程与移动速度的控制电路。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于景兴精密机械有限公司,未经景兴精密机械有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200920164339.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种氨制冷机节能系统
- 下一篇:一种万能式断路器的相间隔板装置