[实用新型]用于在真空下实施衬底的表面处理的设备

摘要

本实用新型涉及一种用于在真空下实施衬底的表面处理的设备，该设备包括外壳，外壳包括与真空源相通的室，当进行表面处理加工时，所述室中的至少一个室起剩余的室的真空锁定室的作用。外壳被分成上部外壳半部分和下部外壳半部分，其中至少一个外壳半部分具有凹陷。枢轴旋转地安装在外壳半部分之间的是旋转器，旋转器包括待处理的衬底将被置于其内的凹陷。外壳半部分设计成处于两个位置，在第一位置，其与旋转器分开，而在第二位置，其与旋转器接触。在第一位置，旋转器被设计成旋转到预定的旋转位置，在此位置，外壳半部分和旋转器内的凹陷与各室重合。在第一位置，真空锁定室可以被打开并被抽真空，而不会干扰外壳的其他部件内的真空。

主权项

一种用于在真空下实施衬底的表面处理的设备，所述设备包括外壳，所述外壳具有与至少一个真空源相通的至少两个室，所述至少两个室中的至少一个室被设计成起到能够暴露于大气的真空锁定室的作用，衬底可被引入到所述至少一个室中并可被去除以进入剩余的室，其特征在于，所述外壳具有上部外壳半部分和下部外壳半部分以及旋转器，所述上部外壳半部分和下部外壳半部分的外周通过韧性密封构件连接，所述外壳半部分中的至少一个具有凹陷，所述凹陷预期构成所述室中的至少一些，所述旋转器枢轴旋转地安装在所述外壳半部分之间且具有衬底预期置于其中的凹陷，所述外壳半部分被设计成在产生力的构件的作用下，从第一位置移动至第二位置，在所述第一位置，所述外壳半部分通过与所述旋转器的紧密密封接触而阻止所述旋转器旋转，在所述第二位置，所述上部外壳半部分和下部外壳半部分与所述旋转器分开，以便允许所述旋转器旋转至预定的位置，在所述预定的位置处，所述旋转器内的至少一个凹陷至少部分地与所述室中的一个重合，从而允许衬底在所述室之间移动。