[实用新型]平面痕迹扫描系统无效
申请号: | 200920172951.1 | 申请日: | 2009-08-17 |
公开(公告)号: | CN201481417U | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
发明(设计)人: | 刘晋;司书春;胡书良 | 申请(专利权)人: | 刘晋;司书春 |
主分类号: | A61B5/117 | 分类号: | A61B5/117 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨;朱世定 |
地址: | 100038 北京市西城*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型是一种平面痕迹扫描系统,其包括:一光学成像模块,其设置于待测痕迹物证之上,用于倾斜照射所述待测痕迹物证,并产生一反映痕迹物证信息的光信号;一光电转换模块,其与所述的光学成像模块相连,将所述光学成像模块产生的光信号转换成一电信号;一A/D转换模块,其将所述电信号转换成为数字信号,并传递给计算机;一控制模块,其与光学成像模块相连,并控制所述光学成像模块移动,使全面扫描所述待测痕迹物证。 | ||
搜索关键词: | 平面 痕迹 扫描 系统 | ||
【主权项】:
一种平面痕迹扫描系统,其特征在于,其包括:一光学成像模块,其设置于待测痕迹物证之上,用于倾斜照射所述待测痕迹物证,并产生一反映痕迹物证信息的光信号;一光电转换模块,其与所述的光学成像模块相连,将所述光学成像模块产生的光信号转换成一电信号;一A/D转换模块,其将所述电信号转换成为数字信号,并传递给计算机;一控制模块,其与光学成像模块相连,并控制所述光学成像模块移动,使全面扫描所述待测痕迹物证。
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