[实用新型]多掩模的光刻机硅片台系统无效
| 申请号： | 200920173485.9 | 申请日： | 2009-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN201527541U | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | 朱煜;张鸣;汪劲松;田丽;徐登峰;尹文生;段广洪;胡金春;许岩 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更岩 |
| 地址： | 100084 北京市10*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 多掩模的光刻机硅片台系统，该系统含有基台，至少一个硅片台，一组光学透镜和掩模台系统。所述的掩模台系统包括掩模台基座和掩模承载台；掩模台基座长边为Y方向，短边为X方向，所述的掩模承载台在掩模台基座上沿Y方向作直线运动，掩模承载台上沿Y方向至少设置两个掩模版安装槽和两个掩模版，每个掩模版安装槽内放置一个掩模版。本实用新型避免了现有光刻机技术的不足，在更换掩模版后需要再次对准的高精度要求等缺陷，只是在现有结构上延长了掩模台导轨行程，其系统结构复杂程度并无太大变化，与使用一台现有的光刻机相比，使整个光刻效率有一定的提高。 | ||
| 搜索关键词： | 多掩模 光刻 硅片 系统 | ||
【主权项】：
多掩模的光刻机硅片台系统，该系统含有基台(1)，至少一个硅片台，一组光学透镜(4)和掩模台系统，其特征在于：所述的掩模台系统包括掩模台基座(5)和掩模承载台(6)，掩模台基座(5)长边为Y方向，短边为X方向，所述的掩模承载台(6)在掩模台基座(5)上沿Y方向作直线运动，掩模承载台(6)上沿Y方向至少设置两个掩模版安装槽，每个掩模版安装槽内放置一个掩模版。
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