[实用新型]磁控溅射靶无效

专利信息
申请号: 200920186949.X 申请日: 2009-08-13
公开(公告)号: CN201506829U 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 马磊;李子云;张浙军 申请(专利权)人: 普乐新能源(蚌埠)有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 代理人: 杨晋弘
地址: 233000 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型提供的一种生产太阳能电池的磁控溅射靶,包括铝制的矩形腔体(1)、密封圈(4)以及覆盖并固定在矩形腔体(1)上端的铜板(3),内装溅射强磁铁(6),腔体底部连接金属水管路(5、7),溅射靶的工作电源输入线路是并接在金属水管路上。其特征是在铜板(3)的下表面覆设有含钛的金属保护膜(2),或是与钛的标准电极电势相接近的金属保护膜。由于钛在碱性溶液中的标准电极电势为-1.63V,铝的标准电势为-1.28V,钛与铝的标准电极电势非常接近,钛膜层与铝制腔体将是纯金属接触,它们之间很难产生化学腐蚀,钛膜层起到隔离层的作用,保护了铝制腔体,提高铝制腔体的耐腐蚀性,因此也将极大的提高溅射靶的寿命,降低成本。
搜索关键词: 磁控溅射
【主权项】:
一种磁控溅射靶,包括铝制的矩形腔体(1)、密封圈(4)以及覆盖并固定在矩形腔体(1)上端的铜板(3),其特征是在与矩形腔体(1)相接触的铜板(3)的表面覆设有含钛的金属保护膜(2)。
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