[实用新型]配模抛光装置无效
申请号: | 200920191860.2 | 申请日: | 2009-08-20 |
公开(公告)号: | CN201505856U | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 计时鸣;金明生;张利;袁巧玲;张宪;文东辉 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02 |
代理公司: | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人: | 王兵;黄美娟 |
地址: | 310014 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 配模抛光装置,包括工作台护栏,所述工作台护栏中间设有T型槽转台,所述T型槽转台通过伺服电机驱动获取需求的转速,所述T型槽转台上连接有配模主体单元,所述配模主体单元包括总体呈圆柱体状的底座,所述底座中间有由规则抛光件的尺寸大小和单次抛光量确定的内凹型腔,所述内凹型腔上盖有盖板,所述内凹型腔与盖板之间放置有规则抛光件。本实用新型的有益效果:能有效解决小尺寸规则抛光件安装定位和边缘效应问题,又便于规划抛光轨迹,补偿高度误差,监测抛光过程和提高抛光效率。 | ||
搜索关键词: | 抛光 装置 | ||
【主权项】:
配模抛光装置,其特征在于:包括工作台护栏,所述工作台护栏中间设有T型槽转台,所述T型槽转台通过伺服电机驱动获取需求的转速,所述T型槽转台上连接有配模主体单元,所述配模主体单元包括总体呈圆柱体状的底座,所述底座中间有由规则抛光件的尺寸大小和单次抛光量确定的内凹型腔,所述内凹型腔上盖有盖板,所述内凹型腔与盖板之间放置有规则抛光件。
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