[实用新型]一种湿蚀刻设备有效

专利信息
申请号: 200920204223.4 申请日: 2009-08-21
公开(公告)号: CN201520802U 公开(公告)日: 2010-07-07
发明(设计)人: 欧阳志升;陈建同;姚洋羽;廖钦盛 申请(专利权)人: 深圳华映显示科技有限公司;中华映管股份有限公司
主分类号: C23F1/08 分类号: C23F1/08
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 张全文
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型提供了一种湿蚀刻设备。所述湿蚀刻设备包括:一蚀刻槽,具有一用以供一基板进入所述蚀刻槽内的开口,所述开口位于所述蚀刻槽的一侧壁;一闸门,设于所述开口处,所述闸门具有一用于遮蔽及暴露出所述开口的门板,且所述门板设置成与水平面之间具有一不为零的夹角;一提供液体的液滴装置,所述液滴装置设置成使液体顺着所述门板,由高处向低处流动;以及一用以防止液体流入所述蚀刻槽内的导流片,所述导流片设置于所述开口的下缘。本实用新型利用湿蚀刻设备可除去蚀刻液在基板入口通道处形成的结晶物,解决基板被刮伤或结晶物掉落在基板上的问题。
搜索关键词: 一种 蚀刻 设备
【主权项】:
一种湿蚀刻设备,其特征在于,所述湿蚀刻设备包括:一蚀刻槽,具有一用以供一基板进入所述蚀刻槽内的开口,所述开口位于所述蚀刻槽的一侧壁;一闸门,设于所述开口处,所述闸门具有一用于遮蔽及暴露出所述开口的门板,且所述门板设置成与水平面之间具有一不为零的夹角;一提供液体的液滴装置,所述液滴装置设置成使液体顺着所述门板,由高处向低处流动;以及一用以防止液体流入所述蚀刻槽内的导流片,所述导流片设置于所述开口的下缘。
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