[实用新型]二次光学透镜无效
申请号: | 200920209170.5 | 申请日: | 2009-09-04 |
公开(公告)号: | CN201487818U | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
发明(设计)人: | 刘学勇;杨相利;何慧娟;张东标;王赛 | 申请(专利权)人: | 宁波安迪光电科技有限公司;杭州照相机械研究所 |
主分类号: | F21V5/04 | 分类号: | F21V5/04 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
地址: | 315400 浙江省余姚市西*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种二次光学透镜,包括透镜底座及光学处理模组,光学处理模组包括:一呈柱面的光入射面;一光出射面,包括曲面光出射面和斜面光出射面,曲面光出射面系由两条在法向上相互垂直的曲线运动而形成的自由曲面,该二条曲线满足下列条件:X=A2Z2+A4Z4+……+A0,X=B2Y2+B4Y4+……+B0,斜面光出射面为以光轴为对称轴的斜平面,其轨迹为:Z=C1X+C0;全反射侧面,该全反射侧面为以光轴为对称轴的斜平面,其轨迹为:Z=D1X+D0;光出射面中的曲面光出射面设置于光入射面的正上方覆盖整个光入射面,斜面光出射面对称地设置于曲面光出射面的两侧,且其设置在全反射侧面的正上方,覆盖整个全反射侧面。 | ||
搜索关键词: | 二次 光学 透镜 | ||
【主权项】:
一种二次光学透镜,包括一透镜底座及光学处理模组,所述透镜座体形成有LED光源放置槽,其特征在于,所述光学处理模组包括:光入射面,该光入射面为朝出光方向形成的凹坑表面形成,所述光入射面为一柱面;光出射面,包括曲面光出射面和斜面光出射面,其中,所述的曲面光出射面系由两条在法向(即光轴)上相互垂直的曲线运动而形成的自由曲面,该二条曲线满足下列条件:X=A2Z2+A4Z4+……+A0,X=B2Y2+B4Y4+……+B0;所述的斜面光出射面为以光轴为对称轴的斜平面,其轨迹满足下列条件:Z=C1X+C0;以及全反射侧面,该全反射侧面为以光轴为对称轴的斜平面,其轨迹满足下列条件:Z=D1X+D0;所述光出射面中的曲面光出射面设置于所述光入射面的正上方位,覆盖整个光入射面;所述斜面光出射面对称地设置于所述曲面光出射面的两侧,且该斜面光出射面设置在所述全反射侧面的正上方,覆盖整个全反射侧面;其中,X为光轴坐标,Y、Z为与X轴垂直形成的三维坐标中的Y、Z坐标;上述方程式中的项次以及各项的系数(即A2、A4、......A0,B2、B4、......B0,C1、C0,D1、D0)根据实际照明需求,通过光线追迹计算、仿真进行优化确定。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波安迪光电科技有限公司;杭州照相机械研究所,未经宁波安迪光电科技有限公司;杭州照相机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200920209170.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。