[实用新型]离子注入机的离子源有效
| 申请号： | 200920209614.5 | 申请日： | 2009-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN201478255U | 公开（公告）日： | 2010-05-19 |
| 发明（设计）人： | 简志宏;王振辉 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/317;C30B31/22 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种离子注入机的离子源，其反应腔及其组件均为金属材料，该反应腔内表面经过处理而变得粗糙；同时，反应腔内表面被凹凸不平以提供规则的表面特征图案。本实用新型一方面通过提高离子源反应腔内表面的粗糙率，使沉积物更容易附着在反应腔的内壁而不脱落；另一方面通过增大反应腔内表面的面积，减少单位面积的沉积物的数量，同时还可以提高产生电浆的效率。本实用新型可以减少离子注入机的维护费用。本方法提供的离子注入方法，可以进行粒子的直接转换，更加有效的利用了设备，提高生产率。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 离子源 | ||
【主权项】：
一种离子注入机的离子源，包括一反应腔，该反应腔内表面为金属材料，其特征在于，该反应腔内表面经过处理而变得粗糙。
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