[实用新型]磁片表面缺陷检测设备无效
申请号: | 200920210101.6 | 申请日: | 2009-09-25 |
公开(公告)号: | CN201514385U | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 沈皓然 | 申请(专利权)人: | 苏州工业园区高登威科技有限公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88;G01N21/892 |
代理公司: | 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 | 代理人: | 孙敏 |
地址: | 215000 江苏省苏州市苏州工业*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种磁片表面检测设备,其包括有工作台,工作台上设置有可围绕自身中轴线旋转的第一基座以及第一支架。其中第一基座与一第一电机驱动装置连接,并可在其驱动下进行旋转;且基座上还设置有若干存储槽。第一支架上设置有检测用第一照相机,其用于为待检测的放置于第一基座收容槽内的待检测磁片进行拍照以获得待测磁片的表面图像信息。这些图像信息将被输送至图像分析系统,图像分析系统对输送的待测磁片的图片信息进行分析,并根据分析结果以确定待测磁片是否表面无缺陷。 | ||
搜索关键词: | 磁片 表面 缺陷 检测 设备 | ||
【主权项】:
一种磁片表面缺陷检测设备,其特征在于,其包括有工作台,所述工作台上设置有可围绕自身中轴线旋转的第一基座以及第一支架;其中所述第一基座与一第一电机驱动装置连接,并可在其驱动下进行旋转;且所述基座上还设置有若干存储槽;所述第一支架上设置有检测用第一照相机,其用于为待检测的放置于第一基座收容槽内的待检测磁片进行拍照以获得待测磁片的表面图像信息。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州工业园区高登威科技有限公司,未经苏州工业园区高登威科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200920210101.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:液晶面板结构
- 下一篇:一种外场环境下激光与可见光两光轴瞄准偏差测试装置