[实用新型]化学气相沉积设备有效
| 申请号： | 200920211681.0 | 申请日： | 2009-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN201530864U | 公开（公告）日： | 2010-07-21 |
| 发明（设计）人： | 李景伦 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/455 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型揭示了一种化学气相沉积设备，所述化学气相沉积设备包括：进气管路；与所述进气管路连通的第一传输管路；与所述第一传输管路连通的第一反应腔；与所述进气管路连通的第二传输管路；与所述第二传输管路连通的第二反应腔；其中，所述进气管路是螺旋式管路。所述螺旋式管路可加剧源材料分子在管路中的碰撞，有利于源材料在管路内的流动，进而提高两个反应腔内形成的薄膜的厚度以及致密度的一致性，提高了产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】：
一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括：进气管路；与所述进气管路连通的第一传输管路；与所述第一传输管路连通的第一反应腔；与所述进气管路连通的第二传输管路；与所述第二传输管路连通的第二反应腔；其中，所述进气管路是螺旋式管路。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
