[实用新型]X射线照相成像装置有效

专利信息
申请号: 200920219252.8 申请日: 2009-09-28
公开(公告)号: CN201662621U 公开(公告)日: 2010-12-01
发明(设计)人: T·J·特雷威尔;R·S·克尔;R·W·库尔平斯基;J·约克斯顿;T·J·沃奇克;K·-L·叶 申请(专利权)人: 卡尔斯特里姆保健公司
主分类号: G01T1/20 分类号: G01T1/20;G21K4/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李湘;李家麟
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种X射线照相成像装置包括具有第一厚度的第一闪烁荧光屏和具有第二厚度的第二闪烁荧光屏。在第一屏和第二屏之间设置透明基底。基底一侧上形成的成像阵列包括多个光电传感器和读出元件阵列。
搜索关键词: 射线 照相 成像 装置
【主权项】:
一种X射线照相成像装置,其特征在于包括:具有第一厚度的第一闪烁荧光屏;具有第二厚度的第二闪烁荧光屏;设置于该第一屏和该第二屏之间的基底,该基底相对于用于该装置的X射线基本上透明;以及设置于该基底的第一侧面和该第一屏和第二屏中的一个之间的成像阵列,该成像阵列包括多个像素,每个像素包括至少一个光电传感器和至少一个读出元件。
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