[实用新型]一种能降低低频噪声的磁共振成像MRI系统前置放大器无效

专利信息
申请号: 200920222511.2 申请日: 2009-09-11
公开(公告)号: CN201541238U 公开(公告)日: 2010-08-04
发明(设计)人: 黄璐巍;李烨;蒋晓华 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H03F3/189 分类号: H03F3/189;H03F1/26;G01R33/20
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 朱琨
地址: 100084 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种能降低低频噪声的磁共振成像MRI系统前置放大器属于射频电子放大器领域,其特征在于,含有砷化镓增强型伪形态高电子迁移率晶体管T1、接入所述晶体管T1栅极的输入匹配网络,接入所述晶体管T1和地之间的反馈网络,与所述输入匹配网络相连的直流偏置网络,以及与电源Vcc相连的滤波网络,所述滤波网络输出端和所述直流偏置网络的输入端相连,同时再经分压后与所述输出匹配网络的输入端相连。本实用新型在10MHz-100MHz的频带内绝对稳定,能在任意中心频率实现小于0.45dB的噪声系数和大于25dB的信号增益,而且带宽只有5MHz,有利于抑制MRI系统中频带外噪声对图像质量的影响,而且只有一级放大电路,易于设计和调试。
搜索关键词: 一种 降低 低频 噪声 磁共振 成像 mri 系统 前置放大器
【主权项】:
一种能降低低频噪声的磁共振成像MRI系统前置放大器,其特征在于:含有一个型号为ATF-54143的砷化镓增强型伪形态高电子迁移率晶体管(T1),一个输入匹配网络,一个反馈网络,一个直流偏置网络,一个滤波网络以及一个输出匹配网络,其中,输入匹配网络,实现对所述前置放大器的噪声匹配,含有:第一电容(C1),第二电容(C2),第三电容(C3)和第一电感(L1),其中,第一电容(C1),第二电容(C2)和第一电感(L1)各有一端共连后接所述砷化镓增强型伪形态高电子迁移率晶体管(T1)的栅极,第三电容(C3)的一端和所述第一电感(L1)的另一端相连,所述第二电容(C2)的另一端和第三电容(C3)的另一端共同接地,所述第一电容(C1)的另一端通过保护电路与输入端口(Input)连接,所述保护电路由第一二极管(D1)和第二二极管(D2)构成,所述第一二极管(D1)的正极和第二二极管(D2)的负极共同接地,所述第一二极管(D1)的负极和第二二极管(D2)的正极相连后共同与所述第一电容(C1)的另一端和输入端口(Input)相连,反馈网络,由第三电感(L3)构成,一端与所述砷化镓增强型伪形态高电子迁移率晶体管(T1)的源极相连,而所述第三电感(L3)的另一端接地,直流偏置网络,实现对所述砷化镓增强型伪形态高电子迁移率晶体管(T1)的静态工作点的控制,含有:第一电阻(R1),第二电阻(R2),第三电阻(R3)和第四电阻(R4),所述第一电感(L1)的另一端依次串联所述第四电阻(R4)和第一电阻(R1)后接地,所述第四电阻(R4)和第一电阻(R1)的串接点又依次串联第二电阻(R2)和第三电阻(R3),而所述第三电阻(R3)的一端为所述直流偏置网络的输入端,滤波网络,用于抑制直流电源(Vcc)引入所述磁共振成像MRI系统前置放大器的噪声,含有:第七电容(C7),第八电容(C8)和第四电感(L4),其中,所述第四电感(L4)的一端接所述直流电源(Vcc),另一端通过并联的所述第七电容(C7)和第八电容(C8)接地,同时与所述第三电阻(R3)的所述直流偏置网络的输入端相连,输出匹配网络,实现对所述MRI系统前置放大器的输出阻抗匹配,含有:第四电容(C4),第五电容(C5),第六电容(C6),第五电阻(R5)和第二电感(L2),其中:所述第四电容(C4)一端为所述输出匹配网络的输出端,另一端和所述第五电容(C5),第二电感(L2)和第五电阻(R5)各自的一端相连后接砷化镓增强型伪形态高电子迁移率晶体管(T1)的漏极,所述第六电容(C6)一端接地,另一端和所述第五电容(C5),第二电感(L2)和第五电阻(R5)各自的另一端相连后接所述互相串联的第二电阻(R2)和第三电阻(R3)的串接处。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学,未经清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200920222511.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top